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光刻机霸主ASML（阿斯麦）已经开始出货新品Twinscan NXT:2000i DUV（NXT:2000i双工件台深紫外光刻机），可用于7nm和5nm节点。
NXT:2000i将是NXE:3400B EUV光刻机的有效增补，苏州veeam，究竟台积电/GF的第一代7nm都是基于DUV工艺。
同时，NXT:2000i也成为了ASML旗下套刻精度（overlay）最高的产物，到达了和3400B一样的1.9nm（5nm要求至少2.4nm，苏州戴尔，7nm要求至少3.5nm）。
ASML将于本季度末开始量产Twinscan NXT:2000i，价格未披露。目前，NXE:3400B EUV光刻机的报价是1.2亿美元一台，传统的ArF陶醉式光刻机（14nm节点）报价是7200万美元之间， NXT:2000i必定是在这两者之间了。
2017年全球光刻机市场占比7成，是绝对的一哥，后头随着的是佳能、尼康和上海微电子。
集成电路在制作历程中经历质料制备、掩膜、光刻、刻蚀、清洗、掺杂、机械研磨等多个工序，个中以光刻工序最为要害，它是整个集成电路财富制造工艺先进水平的重要指标，即在芯片制造历程中的掩膜图形到硅衬底图形之间的转移。（上刻出晶体管器件的布局和晶体管之间的连接通路。）
